సిలికానైజ్డ్ గ్రాఫైట్ Vs. Sic

కార్బన్ గ్రాఫైట్ పదార్థంలో స్వీయ-విలక్షణ, అధిక యాంత్రిక బలం, ఘర్షణ యొక్క తక్కువ గుణకం, అధిక ఉష్ణోగ్రత నిరోధకత, మంచి యాంటీ-వేర్, యంత్రాలు, రసాయన పరిశ్రమ, పెట్రోలియం, ఇన్స్ట్రుమెంటేషన్, పంపులు మరియు ఇతర రంగాలలో విస్తృతంగా ఉపయోగించబడుతుంది. సాంప్రదాయిక గ్రాఫైట్ పదార్థాలు దుస్తులు నిరోధకత మరియు తుప్పు నిరోధకత పరంగా అనువైనవి కంటే తక్కువగా ఉంటాయి, అయితే సిలిసిఫైడ్ గ్రాఫైట్, ఒక నవల ఇంజనీరింగ్ పదార్థంగా, కార్బన్ గ్రాఫైట్ మరియు సిలికాన్ కార్బైడ్ రెండింటి లక్షణాలను కలిగి ఉంది మరియు విస్తృత శ్రేణి అనువర్తనాలలో ఉపయోగించబడుతుంది.

గ్రాఫైట్ సిలిసైడ్ అంటే ఏమిటి?

సిలికానైజ్డ్ గ్రాఫైట్ అనేది గ్రాఫైట్ పదార్థం యొక్క ఉపరితలంపై పూసిన సిలికాన్ కార్బైడ్ పొరతో కూడిన మిశ్రమ పదార్థం. సిలికాన్ కార్బైడ్ పొర మందం 1 ~ 1.5 మిమీ, సిలికాన్ కార్బైడ్ పొర మరియు గ్రాఫైట్ మాతృకను దగ్గరగా కలిపి. గ్రాఫైట్ సిలిసైడ్ యొక్క కాఠిన్యం వాస్తవానికి SIC యొక్క కాఠిన్యం, ఇది డైమండ్, బోరాన్ నైట్రైడ్, బోరాన్ కార్బైడ్ మరియు టంగ్స్టన్ కార్బైడ్ మరియు అల్యూమినియం ట్రైయాక్సైడ్ యొక్క కాఠిన్యం కంటే ఎక్కువ.

గ్రాఫైట్ సిలిసైడ్ కార్బన్ గ్రాఫైట్ పదార్థాల స్వీయ-సరళత, మంచి ఎలక్ట్రికల్ మరియు థర్మల్ కండక్టివిటీ, థర్మల్ షాక్ రెసిస్టెన్స్ మరియు సీలింగ్ మాత్రమే కాకుండా, అధిక బలం, ఆక్సీకరణ నిరోధకత, సిలికాన్ కార్బైడ్ యొక్క రసాయన తుప్పు నిరోధకత యొక్క ప్రయోజనాలను కలిగి ఉంది మరియు ముఖ్యంగా అనుకూలంగా ఉంటుంది భారీ లోడ్లు, అధిక ఉష్ణోగ్రతలు మరియు ఇతర డిమాండ్ సందర్భాలలో, కాబట్టి గ్రాఫైట్ సిలిసైడ్ పదార్థాలు సీలింగ్, ఘర్షణ, రసాయన పరిశ్రమ, లోహశాస్త్రం మరియు ఏరోస్పేస్ మరియు అణు పరిశ్రమ రంగంలో మరింత విస్తృతంగా ఉపయోగించబడతాయి.

గ్రాఫైట్ సిలిసైడ్ తయారీ

గ్రాఫైట్ సిలిసైడ్ కెమికల్ ఆవిరి నిక్షేపణ (సివిడి), కెమికల్ ఆవిరి ప్రతిచర్య (సివిఆర్) మరియు లిక్విడ్ సిలికాన్ పారగమ్య ప్రతిచర్య పద్ధతి యొక్క మూడు ప్రధాన ఉత్పత్తి పద్ధతులు ఉన్నాయి.

1. రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ (సివిడి)) పద్ధతి

అధిక ఉష్ణోగ్రత గ్రాఫైట్ సబ్‌స్ట్రేట్ థర్మల్ కుళ్ళిపోవడం ద్వారా సిలికాన్ మరియు కార్బన్‌లను కలిగి ఉన్న వాయువు, గ్రాఫైట్ ఉపరితలం యొక్క ఉపరితలంపై జమ చేయబడిన SIC ను ఉత్పత్తి చేస్తుంది. ట్రైక్లోరోమీథైల్సిలేన్ (CH3SIC3), సిలికాన్ టెట్రాక్లోరైడ్, హైడ్రోజన్, సిలికాన్ ఆవిరి మరియు మొదలైన వాటి కోసం ముడి పదార్థాలు. నిక్షేపణ ఉష్ణోగ్రత పరిధి 1175 from నుండి 1775 వరకు ఉంటుంది. ఈ పద్ధతి ద్వారా ఉత్పన్నమయ్యే SIC పొర చాలా దట్టమైన, ఏకరీతి మందం, సుమారు 0.1 ~ 0.3 మిమీ యొక్క సాధారణ మందం, కానీ స్వచ్ఛమైన యాంత్రిక బంధం కోసం SIC మరియు గ్రాఫైట్ ఉపరితలం కలయిక, బంధన శక్తి బలహీనంగా ఉంది, ఉష్ణోగ్రత SIC లో వేగవంతమైన మార్పులో పొర పగుళ్లు, పై తొక్కకు గురవుతుంది.

2. రసాయన ఆవిరి దశ ప్రతిచర్య (సివిఆర్) పద్ధతి

కోక్ పౌడర్ మరియు అదనపు క్వార్ట్జ్ ఇసుక లేదా నిరాకార సిలికా పౌడర్ కోసం ముడి పదార్థాలు, 2000 కు వేడిచేసినప్పుడు రసాయన ప్రతిచర్య సంభవించినప్పుడు, SIO ఆవిరి యొక్క తరం, SIO ఆవిరి మరియు కార్బన్ సబ్‌స్ట్రేట్ ప్రతిచర్య SIC ను ఉత్పత్తి చేయడానికి. SIC పొర మరియు కార్బన్ సబ్‌స్ట్రేట్ రెండు స్పష్టమైన ఇంటర్‌ఫేస్ లేవు, బాండ్ చాలా బలంగా ఉంది, ఉష్ణోగ్రత మరియు అధిక లోడ్‌లో ఆకస్మిక మార్పుల విషయంలో, కానీ CVR పద్ధతి కార్బన్ సబ్‌స్ట్రేట్ యొక్క SIO గ్యాస్ చొచ్చుకుపోవడం ప్రతిచర్యను నిర్వహించడానికి , కాబట్టి కార్బన్ ఉపరితలం యొక్క పోరస్ స్వభావాన్ని ఇప్పటికీ కలిగి ఉంది. ఏదేమైనా, CVR పద్ధతి కార్బన్ మాతృకలోకి SIO గ్యాస్ చొరబాటు యొక్క ప్రతిచర్య, అందువల్ల, ఇది ఇప్పటికీ కార్బన్ మాతృక యొక్క పోరస్ స్వభావాన్ని కలిగి ఉంది, సీలింగ్ పదార్థంగా ఉపయోగించినప్పుడు, రంధ్రాలను నింపడానికి రెసిన్ ఇంప్రెగ్నేషన్ లేదా సివిడి పద్ధతిని ఉపయోగించడం అవసరం .

3. లిక్విడ్ సిలికాన్ పారగమ్యత

ఈ పద్ధతి కూడా ఒక రకమైన సివిఆర్‌కు చెందినది. వాక్యూమ్ పరిస్థితులలో, 1700-1900 to కు వేడి చేయబడిన, కార్బన్ ఉపరితలం నేరుగా కరిగిన సిలికాన్ ద్రవంలో మునిగిపోతుంది, ద్రవ సిలికాన్ క్రమంగా కార్బన్ ఉపరితలంలోకి చొచ్చుకుపోతుంది, ప్రతిచర్య SIC ను ఉత్పత్తి చేయడానికి సంభవించింది. స్వచ్ఛమైన సిలికాన్ కోసం 99.9999% ముడి పదార్థాలు. SIC పొర మందం 3.5 మిమీ వరకు. ప్రతిచర్య తరువాత, కార్బన్ ఉపరితలం రంధ్రం యొక్క స్థావరాన్ని పూరించడానికి ఉచిత సిలికాన్ యొక్క 17% కలిగి ఉంటుంది, తద్వారా ఉపరితలం దట్టంగా మరియు అగమ్యగోచరంగా మారింది. ఏదేమైనా, ఉచిత సిలికాన్ ఉనికి సిలిసిఫైడ్ గ్రాఫైట్ యొక్క తుప్పు నిరోధకత మరియు అధిక-ఉష్ణోగ్రత ఆక్సీకరణ నిరోధకతను తగ్గిస్తుంది.

సిలికానైజ్డ్ గ్రాఫైట్ మరియు SIC ల మధ్య వ్యత్యాసం

. సిలికానైజ్డ్ గ్రాఫైట్ కాఠిన్యం SIC కాఠిన్యం, ఇది టంగ్స్టన్ కార్బైడ్, అల్యూమినియం ఆక్సైడ్ మరియు ఇతర అధిక కాఠిన్యం కంటే డైమండ్, బోరాన్ నైట్రైడ్, బోరాన్ కార్బైడ్ యొక్క రెండవది. గ్రాఫైట్ సిలిసైడ్‌ను ఫాస్పోరిక్ ఆమ్లం, భాస్వరం అమైన్ మరియు హైడ్రోఫ్లోరిక్ యాసిడ్ పంప్ బేరింగ్లుగా ఉపయోగించవచ్చు. అదనంగా, సెమీకండక్టర్ పరిశ్రమ, హీట్ షీట్ సబ్‌స్ట్రేట్ మరియు ఫిక్చర్ యొక్క సిలికాన్ ఎపిటాక్సియల్ పెరుగుదల మరియు కృత్రిమ కీళ్ళు, కృత్రిమ గుండె కవాటాలు, కృత్రిమ దంతాల మూలాల తయారీ.

. సిలికాన్ కార్బైడ్ ప్రకృతిలో అరుదైన ఖనిజ, మొయిసానైట్ గా ఉంది. సిలికాన్ కార్బైడ్ను కార్బన్ సిలికా అని కూడా అంటారు. సమకాలీన సి, ఎన్, బి మరియు ఇతర నాన్-ఆక్సైడ్ నాన్-ఆక్సైడ్ హైటెక్ వక్రీభవన ముడి పదార్థాలలో, సిలికాన్ కార్బైడ్ చాలా విస్తృతంగా ఉపయోగించబడుతోంది, అత్యంత పొదుపుగా ఉంటుంది, వీటిని బంగారు ఉక్కు ఇసుక లేదా వక్రీభవన ఇసుక అని పిలుస్తారు. ప్రస్తుతం, చైనా యొక్క సిలికాన్ కార్బైడ్ యొక్క పారిశ్రామిక ఉత్పత్తి బ్లాక్ సిలికాన్ కార్బైడ్ మరియు గ్రీన్ సిలికాన్ కార్బైడ్ రెండు రకాలుగా విభజించబడింది, షట్కోణ స్ఫటికాలు, 3, 20 ~ 3, 25 యొక్క నిర్దిష్ట గురుత్వాకర్షణ, 2840 ~ 3320kg/mm2 యొక్క మైక్రోహార్డ్నెస్

గ్రాఫైట్ సిలిసైడ్ అంటే ఏమిటి మరియు ఇది ఏ పరిశ్రమలలో ఉపయోగించబడుతుంది?

సిలికానైజ్డ్ గ్రాఫైట్ అనేది గ్రాఫైట్ పదార్థం యొక్క ఉపరితలంపై పూసిన సిలికాన్ కార్బైడ్ పొరతో కూడిన మిశ్రమ పదార్థం. గ్రాఫైట్ సిలిసైడ్ యొక్క కాఠిన్యం SIC యొక్క కాఠిన్యం, ఇది డైమండ్, బోరాన్ నైట్రైడ్, బోరాన్ కార్బైడ్ మరియు టంగ్స్టన్ కార్బైడ్ మరియు అల్యూమినియం ట్రియాక్సైడ్ కంటే ఎక్కువ రెండవది. గ్రాఫైట్ సిలిసైడ్‌ను ఫాస్పోరిక్ ఆమ్లం, ఫాస్పోరిక్ ఆమ్లం మరియు హైడ్రోఫ్లోరిక్ యాసిడ్ పంప్ బేరింగ్లుగా ఉపయోగించవచ్చు. అదనంగా, సెమీకండక్టర్ పరిశ్రమ, హీట్ షీట్ సబ్‌స్ట్రేట్ మరియు ఫిక్చర్ యొక్క సిలికాన్ ఎపిటాక్సియల్ పెరుగుదల మరియు కృత్రిమ కీళ్ళు, కృత్రిమ గుండె కవాటాలు, కృత్రిమ దంతాల మూలాల తయారీ. సిలికాన్ కార్బైడ్ క్వార్ట్జ్ ఇసుక, పెట్రోలియం కోక్ (లేదా బొగ్గు కోక్), కలప చిప్స్ (ఆకుపచ్చ సిలికాన్ కార్బైడ్ ఉత్పత్తి చేయడానికి ఉప్పును కలుపుతారు) మరియు ఇతర ముడి పదార్థాలను రెసిస్టెన్స్ కొలిమిలో అధిక-ఉష్ణోగ్రత కరిగించడం ద్వారా తయారు చేస్తారు. సిలికాన్ కార్బైడ్ ప్రకృతిలో అరుదైన ఖనిజ, మొయిసానైట్ గా ఉంది. సిలికాన్ కార్బైడ్ను కార్బన్ సిలికా అని కూడా అంటారు. సమకాలీన సి, ఎన్, బి మరియు ఇతర నాన్-ఆక్సైడ్ నాన్-ఆక్సైడ్ హైటెక్ వక్రీభవన ముడి పదార్థాలలో, సిలికాన్ కార్బైడ్ చాలా విస్తృతంగా ఉపయోగించబడుతోంది, అత్యంత పొదుపుగా ఉంటుంది, వీటిని బంగారు ఉక్కు ఇసుక లేదా వక్రీభవన ఇసుక అని పిలుస్తారు. ప్రస్తుతం, చైనా యొక్క సిలికాన్ కార్బైడ్ యొక్క పారిశ్రామిక ఉత్పత్తి రెండు రకాల బ్లాక్ సిలికాన్ కార్బైడ్ మరియు గ్రీన్ సిలికాన్ కార్బైడ్ గా విభజించబడింది, షట్కోణ స్ఫటికాలు, 3, 20 ~ 3, 25 యొక్క నిర్దిష్ట గురుత్వాకర్షణ, 2840 ~ 3320kg/mm2 యొక్క మైక్రోహార్డ్నెస్.

గ్రాఫైట్ సిలిసైడ్ ఒక రకమైన సిలికాన్ కార్బైడ్ రీన్ఫోర్స్డ్ గ్రాఫైట్ మిశ్రమ పదార్థంగా, అధిక కాఠిన్యం, అధిక దుస్తులు నిరోధకత మరియు సిలికాన్ కార్బైడ్ యొక్క అధిక ఉష్ణోగ్రత ఆక్సీకరణ నిరోధకతను కలిగి ఉండటమే కాకుండా, గ్రాఫైట్, ఉష్ణ వాహకత మరియు తక్కువ గుణకం యొక్క మంచి స్వీయ-విలేకక లక్షణాలను కూడా కలిగి ఉంది ఉష్ణ విస్తరణ, ఇది యాంత్రిక ముద్రలు మరియు ఇతర అధిక-ఖచ్చితమైన భాగాలకు వర్తించవచ్చు.

యాంత్రిక ముద్ర యొక్క సీలింగ్ ఎండ్ ముఖం షాఫ్ట్ మీద వ్యవస్థాపించబడిన తిరిగే డైనమిక్ రింగ్ మరియు సీటుపై స్థిరపడిన స్టాటిక్ రింగ్ తో కూడి ఉంటుంది, దీనికి మంచి దుస్తులు నిరోధకత, ఘర్షణ యొక్క తక్కువ గుణకం, తుప్పు నిరోధకత, అధిక ఉష్ణ వాహకత, మరియు బలమైన భూకంప పనితీరు మరియు సిలిసైడ్ గ్రాఫైట్ ఈ అవసరాలను ఖచ్చితంగా తీర్చగలవు. 147mpa-m/s వరకు పివి విలువ (ఉత్పత్తి యొక్క సీలింగ్ పీడనం మరియు వేగం), ఉష్ణ ఒత్తిడి పగుళ్లను ఉత్పత్తి చేసే కార్బైడ్ స్టీల్ రింగ్ మరియు గ్రాఫైట్ సిలిసైడ్ స్వీయ-జత సీలింగ్ రింగ్ మరియు దాని పివి విలువ 687mpa- వరకు ఇది కొలుస్తారు. M/S నష్టం లేకుండా. అదనంగా, షీల్డింగ్ పంపులు మరియు అధిక శక్తితో కూడిన డీజిల్ ఇంజిన్ వాటర్ సీల్స్ మరియు ఇతర ముద్రల కోసం కూడా ఉపయోగించవచ్చు. గ్రాఫైట్ సిలిసైడ్‌ను ఫాస్పోరిక్ ఆమ్లం, ఫాస్పోరిక్ ఆమ్లం మరియు హైడ్రోఫ్లోరిక్ యాసిడ్ పంప్ బేరింగ్లుగా ఉపయోగించవచ్చు. అదనంగా, సెమీకండక్టర్ పరిశ్రమ, తాపన ప్లేట్ సబ్‌స్ట్రేట్ మరియు ఫిక్చర్ యొక్క సిలికాన్ ఎపిటాక్సియల్ పెరుగుదల మరియు కృత్రిమ కీళ్ళు, కృత్రిమ గుండె కవాటాలు, కృత్రిమ దంతాల మూలాలు మొదలైనవి తయారు చేయడం మొదలైనవి.

మా అనుభవజ్ఞులైన అప్లికేషన్ ఇంజనీర్లలో ఒకరితో నేరుగా మాట్లాడటానికి ఈ రోజు మా చిన్న విచారణ ఫారమ్‌ను పూరించండి.